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怎么清洗半導體行業的單晶硅片?

發布時間:2018-10-02 16:20 發布者:admin 瀏覽次數:

答:隨著半導體材料技術的發展,對硅片的規格和質量也提出更高的要求,適合微細加工的大直徑硅片在市場的需求比例將日益加大。半導體,芯片,集成電路,設計,版圖,芯片,制造,工藝目前世界普遍采用先進的切、磨、拋和潔凈封裝工藝,使制片技術取得明顯進展。最新尖端技術的導入,使SOI等高功能晶片的試制開發也進入批量生產階段。對此,硅片生產廠家也增加了對300mm硅片的設備投資,針對設計規則的進一步微細化。利用超聲波清洗技術,在清洗過程中超聲波頻率在合理的范圍內往復掃動,帶動清洗液形成細微回流,使工件污垢在被超聲剝離的同時迅速帶離工件表面,提高清洗效率。

單晶硅片

單晶硅片參考圖片

清洗方法及其放置方向

將被洗研磨硅片水平狀放置在清洗槽底部上方柵欄狀的石英棒框架上,在確保清洗槽內具有去離子水高度并不斷流動的條件下,利用設在清洗槽底部的超聲波振子進行清洗,超聲波頻率為40KHz,每5分鐘將研磨硅片翻一個面,連續超洗至被超洗的研磨硅片表面沒有黑色污染物冒出止。 超聲波清洗單晶硅片裝置清洗槽的槽壁上設有進水口和出水口,槽底部下方設有超聲波振子,清洗槽槽內設有一擱置單晶硅片的框架,框架底壁為柵欄狀的石英棒形成的平面低于去離子水水平面,整個框架由支撐腳支撐在清洗槽內。具體實施時,石英棒距離清洗槽的底壁為15厘米。清洗時,單晶硅片可以平置在石英棒上,將現有的豎超洗改成平超洗,消除了單晶硅片在豎超洗狀態下,污染物會殘留堆積在硅片表面,形成局部區域清洗不干凈,以及承載硅片的軟體花籃會吸附和阻擋掉超聲波源的傳遞,從而造成硅片表面局部區域清洗不干凈的現象,具有結構更簡單、用水量大大減少的優點。

采用超聲波清洗的優點:

1.采用了真空脫氣技術有效去除液體中氣體,且運用拋動功能,增強超聲對工件表面油污和污垢的清洗能力,縮短清洗時間。

2.洗籃設計轉動機構重疊不可分拆的零件或形狀復雜的零件,也可做到均勻完整的清洗

將具有一定壓力和溫度的清洗液噴射到零件表面以清除油污。此方法清洗效果好,生產效率高,但設備復雜,適于清洗形狀不太復雜、表面有嚴重油垢的零件。

3.減壓真空系統能吸出盲孔、縫隙及疊加零件之間的空氣,使超聲波在減壓的狀態下產生驚人的清洗效果。

4.真空蒸汽清洗+真空干燥系統利用蒸汽洗凈做養護,完美實現清洗效果。

5.蒸汽清洗、干燥及清洗液加熱的全過程在減壓真空中進行,更有效地確保了安全性。

6.防爆配件及簡潔加熱系統,進一步提高安全度。

7.加熱溫度自動可調。

8.設有安全保險裝置。

9.超聲輸出頻率可根據不同工作情況進行微調。

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無錫專業超聲波清洗機生產廠家

超聲波清洗機相關問答

問:什么是單晶硅片?

答:單晶硅是一種比較活潑的非金屬元素,是晶體材料的重要組成部分,處于新材料發展的前沿;硅的單晶體,是一種具有基本完整的點陣結構的晶體。不同的方向具有不同的性質,是一種良好的半導材料。純度要求達到99.9999%,甚至達到99.9999999%以上。

 

問:單晶硅片的結構?

答:熔融的單質硅在凝固時硅原子以金剛石晶格排列成三維空間長程有序的形式成為單晶硅。 單晶硅具有準金屬的物理性質,有較弱的導電性,其電導率隨溫度的升高而增加,有顯著的半導電性。超純的單晶硅是本征半導體。

 

問:單晶硅片的用途?

答:是制造半導體硅器件的原料,用于制大功率整流器、大功率晶體管、二極管、開關器件等。

 

問:單晶硅片的加工工藝?

答:加料—→熔化—→縮頸生長—→放肩生長—→等徑生長—→尾部生長。

 

問:超聲波換能器,有幾種稱呼?

答:一般來說就叫超聲波換能器或者超聲波震字。

 

問:超聲波換能器的安裝位置?

答:一般來說超聲波換能器只要是金屬平面就可以安裝。

 

相關評論

來自[無錫市]的用戶

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細節處設計的不夠完美,其它都不錯。

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配置多枚工業震頭,可以滲透微米級縫隙,能達到很好的清洗效果。

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